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應用原理：濺射是一種先進的薄膜材料制備技術，它利用離子源產生的離子，在真空中加速聚集成高速離子流，轟擊固體表面，離子和固體表面的原子發(fā)生動能交換，使固體表面的原子離開靶材并沉積在基材表面，從而形成納米或微米薄膜。上述用濺射法沉積薄膜的被轟擊的固體，稱為濺射靶材。

應用領域：純鉬或鉬合金可以在各類基材上形成薄膜。因此廣泛應用于電子及信息產業(yè)。如目前廣泛應用的TFT-LCD(薄膜半導體管-液晶顯示器)、等離子顯示屏、無機發(fā)光二極管顯示器、場發(fā)射顯示器、薄膜太陽能光伏電池、傳感器、半導體裝置和具有可調諧功函數CMOS（互補金屬氧化物半導體）的場效應晶體管柵極等。